간단한 실험실 시연 보고서

접근 방법 요약

Pyxis Lab® 인라인 아졸 센서(ST-565/T)는 염소 성분이 함유되어 구리 부식 및 아졸 화학 반응 에 유용한 장비입니다.

Pyxis Lab® 부식률 센서(CR-200/CR-300)는 부식 속도를 0.001MPY 까지 정확하게 측정할 수 있습니다. 환경에서 적은 PPB 수준의 구리 배출 또는 극도의 부식 방지와 관련된 응용 분야에 서 0.01mpy 미만의 구리 부식 속도를 측정하는 데 이상적입니다.

이 두 장치를 결합하면, 소량의 샘플에서 아졸과 구리 농도를 분석하기 매우 어려운 실제적용 상황에서 아졸 화학반응을 분석할 수 있는 독특한 방법을 제공할 수 있습니다. 이 보고서는 빠른 실험 방법을 설명하기 위한 것입니다.

단시간에 결과를 얻기 위해 50ppm 의 고함량 염소를 사용했습니다.

​

설정

비이커에 있는 탈이온수 2,000 mL 에 0.2 g Na2CO3 를 첨가합니다. 1M H2SO4를 사용하여 pH 를 7.2 로 조정합니다. 결과 용액의 전도도 값은 약 2,500µS/cm 입니다. 구리 전극 2 개가 장착된 CR-Series 센서와 ST-565/T 센서를 비이커에 삽입합니다. 용액은 자석 교반 막대로 적절히 교반합니다. 센서 수치는 Bluetooth® 연결을 통해 컴퓨터에 의해 기록됩니다.

그림 1. 실험을 위한 설치

​

아래 그림 2a 는 부식률을 나타내고 그림 2b 는 아졸 농도를 나타냅니다.

초기 부식률은 약 0.005MPY 였습니다. TTA(Toly Triazole) 1ppm 을 첨가하면 부식률이 약 0.002MPY로 감소했습니다.

차아염소산나트륨 50 ppm의 액을 200 mL 용액에 첨가한 후 부식률이 0.04 MPY 로 급격히 증 가하였고 ST-565 프로브에서 측정한 아졸 ppm 값은 0 에 가깝게 떨어졌습니다. 그림 2a 의 위아래 수치 변화는 교반으로 인한 외란때문에 발생 한 것입니다.

​

​

그림 2a (위) 부식률 과 그림 2b (아래) 아졸 농도

관 찰

그림 3a 는 부식률을 나타내고 그림 3b 는 아졸 농도를 나타냅니다. 초기 부식률은 약 0.005MPY 였습니다. HST(Halogenated Tolytriazole) 1ppm 을 첨가했을 때 부식률이 약 0.002MPY 로 감소하였습니 다. 2,000 mL 용액에 50 ppm Sodium HypoClorite 의 용액을 첨가한 후 부식 속도가 0.07 MPY 로 급격히 증가하였고 ST-565T 프로브에 의해 측정된 아졸 ppm 값은 0 이 아닌 0.25 ppm 으로 떨어졌습니다.

​

그림 2 의 결과를 그림 3 과 비교하면, 염소의 다량 투여 시 할로겐화 TTA 가 TTA 보다 훨씬 안정적이라는 것을 분명히 확인할 수 있습니다. 1ppm HST 를 포함하는 물의 구리 부식 속도는 1ppm TTA 를 포함하는 물의 구리 부식 속도보다 현저히 느립니다.

결 론

이 짧은 실험 보고 에서는 Pyxis ST-565/T 를 사용한 동시다발적인 아졸 잔류 모니터링과 CR-Series 센서에 의한 부식률을 보여 줍니다.

실제 냉각탑 환경에서 구리 부식 모니터링 및 오존 투여 제어를 위해 이 접근 방식을 적용하는 것은 대단한 가치가 있습니다.